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我国新一代光刻机模型亮相

发布日期:2026-11-08 17:22 阅读:
金牌财经排行榜报道,11月5日至10日,第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上,一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800(模型)亮相中国馆,展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。据悉,目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当,套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。(上证报)

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